英特尔 18A 工艺准备就绪,Panther Lake 下半年投产

今日,卡普空正式宣布旗下游戏《生化危机Re:Verse》将于3月4日起下架,并在6月30日关闭服务器。3月4日起,购买《生化危机8:村庄》的新玩家将不会获得《生化危机Re:Verse》。

IT之家 2 月 23 日消息,英特尔昨天更新了其半导体尔 Foundry 相关页面的介绍,并宣布其“四年五个节点”计划中最后也是最为重要的 Intel 18A 工艺已准备就绪,计划于今年上半年开始流片。

18A 制程的成熟标志着英特尔 IDM 2.0 战略的重大突破,同时被视为英特尔代工服务(IFS)重铸往日荣光的关键信号,对于已经退休的英特尔前 CEO P Gelsinger 来说绝对是好消息。

就目前已知信息,英特尔下一代移动处理器Panther Lake 至少有一部分将基于 Intel 18A 工艺制造。

英特尔表示,Panther Lake 芯片计划于今年下半年发布并投产,不过Intel 18A 初期产能有限,所以搭载该芯片的笔记本电脑预计要等到 2026 年才会大批量上市。

此外,英特尔将于 2026 年推出下一代 Nova Lake 桌面。这两款产品承载了英特尔复兴的希望,英特尔认为它们的到来将显著改善该公司的收入情况。

英特尔还计划在明年上半年推出的首款基于 Intel 18A 的服务器产品 Clearw er Forest(最初计划 2025 年发布)。英特尔表示,今年的主题是提高“至强”的市场竞争地位,从而努力缩小与竞争对手的 。

英特尔 18A 工艺准备就绪,Panther Lake 下半年投产

说回 Intel 18A 工艺,英特尔称其采用了业界首创的 PowerVia 背面供电技术,以及 RibbonFET 全环绕栅极(GAA)晶体管技术,相较于 Intel 3 工艺密度提升 30%、单位功耗性能提升 15%。

据行业分析,其 SRAM 密度已与台积电 N2 制程持平,甚至在功耗和性能平衡把控方面更具竞争优势。

IT之家从 获悉,PowerVia 背面供电技术通过将供电层与信号层分离,实现芯片密度和单元利用率提升 5%-10%。相比传统正面供电设计,其电阻压降(IR Drop)显著降低,在相同功耗条件下可实现最高 4% 的性能提升。

RibbonFET 全环绕栅极晶体管技术采用纳米带(Nano bbon)结构,实现对电流的精确控制,可在芯片元件微缩化进程中有效降低漏电率,有效缓解高密度芯片的功耗问题。

英特尔表示,Intel 18A 技术作为 IFS 的核心竞争力,凭借多项突破性创新,将成为北美地区首个量产落地的 2nm 以下先进制程节点,为全球客户提供供应链多元化选择。

关键词:英特尔功耗Intel